收藏雜志
- 主辦單位：Shanghai University
- 主管單位：Shanghai Municipal Education Commission
- 國際刊號：1006-6330
- 國內刊號：31-1436/O1
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應用光學雜志創刊于1980年，辦刊以來，融指導性、實用性、知識性于一體，發行周期為：雙月刊，經過雜志社調整，不斷提高了刊物的整體質量，在行業內有一定的影響。
應用光學雜志辦刊宗旨：是促進學科發展，繁榮學術交流，目前開設的欄目有：光電系統工程（含軍用光學）、光電信息獲取與處理、光學計量與測試、夜視技術、光學元件與制造、激光應用技術、光纖應用技術等。
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(三)參考文獻應引自正式出版物，作者須親自閱讀，在稿件的正文中依其出現的先后順序用阿拉伯數字加方括號在段末上角標出。
(四)關鍵詞：文章內主要內容的術語、未被收錄的新學科的重要術語及文中的人名、地名。
(五)稿件應在首頁以腳注形式注明作者中文姓名、工作單位、學位、職務或職稱、研究方向、通信地址、郵政編碼、聯系電話(宅電、單位電話、手機)、電子郵箱等。
作者：何蘭 韓伯順 楊永建
作者：駱瑋平 張振宇
作者：朱嫣珺 姚奕榮
作者：胡海平 葉卉芳
作者：Kumsa Boka 劉偉 汪志鳴
作者：張婧 楊永建
作者：--
作者：程晉 顧桂定 馬和平
被引次數：指該刊被當參考文獻的引用次數，以及被下載次數。
影響因子：指該刊在某年被全部源刊物引證該刊前兩年發表論文的次數，與該刊前兩年所發表的全部源論文數之比。
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