(一)微納電子與智能制造理論及技術(shù)。包括：微納電子器件與電路、材料制造、封裝與測試、微機(jī)電系統(tǒng)、集成微系統(tǒng)、嵌入式系統(tǒng)、傳感器技術(shù)、存儲(chǔ)技術(shù)、顯示技術(shù)，以及軟硬件協(xié)同設(shè)計(jì)、系統(tǒng)集成設(shè)計(jì)\制造技術(shù)等。
(二)微納電子與智能制造前沿應(yīng)用。人工智能（含生物芯片）、智能控制系統(tǒng)、智能制造技術(shù)、工業(yè)機(jī)器人、虛擬現(xiàn)實(shí)、3D打印、物聯(lián)網(wǎng)、新能源汽車、軌道交通、航空航天等。
(三)論文要具有前沿性、創(chuàng)新性，主題明確、結(jié)構(gòu)完整、層次分明、文字精煉，綜述性論文或研究性論文皆可。
(四)學(xué)術(shù)重復(fù)度不超過20%（包括自己已發(fā)表過的文章），不允許一稿多投。
(五)稿件文責(zé)自負(fù)。編輯部對來稿有權(quán)做技術(shù)性和文字性修改，實(shí)質(zhì)性內(nèi)容修改須征得作者同意。
(六)題目、作者及單位、摘要、關(guān)鍵詞的中英文；關(guān)鍵詞3～8個(gè)，并與文章主要報(bào)道內(nèi)容相關(guān)、具有實(shí)際意義；摘要200～300字左右，應(yīng)包括研究的問題、過程和方法、結(jié)果和結(jié)論3個(gè)層次。
(七)文中圖表需清晰，用軟件繪制的圖盡量提供圖表的矢量圖，圖表均需有中英文標(biāo)題。
(八)文中公式或外文的每個(gè)字母必須分清大小寫和正斜體，上下角標(biāo)應(yīng)標(biāo)注清楚；公式中同一符號在一篇文章中只能有一個(gè)含義，每個(gè)符號均需在文中第一次出現(xiàn)的位置說明其含義。
(九)參考文獻(xiàn)一般不少于10篇，綜述性文章不少于20篇，中文參考文獻(xiàn)需翻譯成英文，參考文獻(xiàn)應(yīng)以文中出現(xiàn)的先后次序在正文中注明編號，并列于文后，參考文獻(xiàn)的書寫格式請參照"參考文獻(xiàn)著錄規(guī)則"。
(十)本刊長期接收稿件，編輯部對稿件堅(jiān)持同行評議的評審原則，對稿件實(shí)行快審快發(fā)和優(yōu)先出版，保證投稿作者研究成果的及時(shí)發(fā)表，承諾稿件處理全程不超過3個(gè)月。
